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Tagung: Ionenimplantation



Bochum, 24.04.1996
Nr. 74

Hoehere Wirkungsgrade fuer Halbleiterelemente
Auf dem Weg zu verbesserten Materialeigenschaften
17. Treffen der Benutzergruppe Ionenimplantation


Das Dynamitron-Tandem-Laboratorium (DTL) der RUB ist am 26.04.1996
Gastgeber des 17. Treffens der Benutzergruppe Ionenimplantation.
Dieses Treffen findet halbjaehrlich statt und fuehrt Vertreter von
Forschungseinrichtungen, der Industrie und Geraeteherstellern zu einem
intensiven Erfahrungsaustausch ueber Probleme der Ionenimplantation
zusammen.

Zusammenarbeit mit der  Industrie 

Das DTL beschaeftigt sich seit 1989 mit der industriellen Anwendung
von Hochenergie-Ionenimplantation als Methode zur gezielten
Modifikation von Materialeigenschaften, insbesondere bei der
Entwicklung und Produktion von Halbleiterbauelementen. Unter der
Leitung von Akad. Direktor Dipl.-Phys. K. Brand ist in enger
Kooperation mit einem mittelstaendischen Hersteller von
Leistungshalbleitern ein Bauelement entwickelt worden, das sich unter
anderem durch einen hoeheren Wirkungsgrad gegenueber konventionell
hergestellten Konkurrenzprodukten auszeichnet. Hoeherer Wirkungsgrad
bedeutet geringeren Einsatz von Primaerenergie und verringerten
CO2-Ausstoss. Im Zuge der Vermarktung dieses High-Tech-Produktes sind
einige Arbeitsplaetze neu entstanden. Eine aehnliche Entwicklung
laeuft zur Zeit mit einem Hersteller in NRW zur Entwicklung von
Bauelementen, die in der Bahntechnik Verwendung finden.



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Mit freundlichen Gruessen 

Dr. Josef Koenig 
RUB - Ruhr-Universitaet Bochum 
- Pressestelle - 
44780 Bochum 
Tel: + 49 234 700-2830, -3930
Fax: + 49 234 7094-136
Josef.Koenig@rz.ruhr-uni-bochum.de 

Schauen Sie doch bei uns mal rein: 
http://www.rz.ruhr-uni-bochum.de/pressestelle

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