Hochvakuumkammer (K4)

Hochvakuumkammer (K4)

K4 ist eine Hochvakuumkammer, Turbo- und Kryo-gepumpt, die mit drei Kathoden (1x DC, 2x RF) ausgestattet ist. Das Besondere an diesem System ist ein sich drehender wassergekühlter Probenteller auf dem bis zu 5 Substrate auf drehbaren kleineren Probentellern eingebaut werden können. Während der Abscheidung passieren die Substrate jeder Kathode bei einer vollen Umdrehung. Dadurch entsteht eine sehr feine Multilagenstruktur der Targetmaterialien auf dem Substrat. Durch die Nutzung von Akturatorarmen, die an den Probentellern angebracht sind, sowie eines festen Stabs und einem Aktuatorarm die an der Kammerwand angebracht sind, können die Probenteller bei jeder Umdrehung um 90° vor und zurück gedreht werden. Dadurch lassen sich, zusammen mit speziell gestalteten Aperaturen, lineare Schichtgradienten auf den Materialbibliotheken, die orthogonal zu einander stehen, erzeugen.
The große Vorteil dieses Systems ist die Möglichkeit mehrere Materialbibliotheken mit fast identischer Zusammensetzungsverteilung in einem Herstellungsschritt herzustellen. Die erleichtert Glühversuche von Materialbibliotheken sowie den Vergleich von verschiedenen Substraten auf denen eine Materialbibliothek abgeschieden wird.
Dieses Sputtersystem wurde von der Dahn-Gruppe an der Dalhousie University in Halifax, Canada, entwickekt. Weitere Informationen und Publikationen finden Sie auf der Homepage der Gruppe.